在所有應(yīng)用產(chǎn)業(yè)中,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對靶材濺射薄膜的品質(zhì)要求是苛刻的。如今12英寸(300衄口)的硅晶片已制造出來.而互連線的寬度卻在減小。硅片制造商對靶材的要求是大尺寸、高純度、低偏析和細晶粒,遼陽純鈀靶材,這就要求所制造的靶材具有更好的微觀結(jié)構(gòu)。靶材的結(jié)晶粒子直徑和均勻性已被認為是影響薄膜沉積率的關(guān)鍵因素。另外,薄膜的純度與靶材的純度關(guān)系極大,過99.995%(4N5)純度的銅靶,純鈀靶材哪家好,或許能夠滿足半導(dǎo)體廠商0.35pm工藝的需求,但是卻無法滿足如今0.25um的工藝要求。
金屬靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料。有金屬類、合金類、氧化物類等等。
簡單說的話,例如:蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜......鋁膜等。更換不同的靶材(如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。
應(yīng)用于顯示屏的阻擋層或調(diào)色層,筆記本電腦的裝飾層、電池的封裝等.
鎢-鈦靶材作為光伏電池鍍膜材料是近發(fā)展起來的,它作為第三代太陽能電池的阻擋層是佳選擇。
由于 W-Ti 系列薄膜具有非常優(yōu)良的性能,純鈀靶材回收,近幾年來應(yīng)用量急劇增加,2008年W-Ti 靶材世界用量已達到400t,隨著光伏產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,這種靶材的需求量會越來越大。具行業(yè)預(yù)測其用量還會有很大的增加。國際太陽能電池市場以的速度增長,目前世界有30 多公司參與太陽能市場的進一步開發(fā), 并已有的公司產(chǎn)品投入市場。
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