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日照微弧技術有限公司
主營：微弧氧化,微弧氧化技術,微弧氧化電源,微弧氧化廠家
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微弧氧化技術特點
（1）氧化膜具有陶瓷結構特征。
（2）原位生長。
（3）氧化膜均勻增厚。
（4）無污染：無環(huán)保限制元素加入，基本無廢水排放。
制備工藝簡單。
（5）表面硬度高，顯微硬度在400至1500HV；
（6）耐磨損性能與硬質合金相當；
（7）耐腐蝕性能：鹽霧試驗鋁合金1000－2000小時 ；鎂
合金經封孔后耐鹽霧可達1000小時以上。
（8）耐熱性能：300℃水中淬火35次未見變化，微弧氧化技術服務，1300℃
沖擊5次不脫落、不龜裂。
（9）絕緣性能：膜厚不同，表面電阻達 109－12Ω
陽極氧化膜層與微弧氧化膜層的區(qū)別是什么？
由微弧氧化膜層的生長機理可知，陽極氧化是微弧氧化的初級階段。陽極氧化發(fā)生的是化學反應，而微弧氧化除化學反應外，還伴隨有電化學、高溫等離子體等反應。其膜層由于是在高溫下生成（瞬間高溫度超過3K攝氏度），膜層與基體間為冶金結合，因此與基體結合良好。另外，鈦合金微弧氧化技術，膜層為氧化物瞬間冷凝形成，PEO技術微弧氧化，具有較高的致密度和硬度以及良好的耐腐蝕性能，微弧氧化技術，良好的絕緣性等。但歸跟到底，微弧氧化膜層與陽極氧化膜層醉的的差別在于：膜與基體的結合力，膜層內部致密性及相結構。這幾種差別引起了微弧氧化膜層與陽極氧化膜層其它方面的性能差異。
微弧氧化的起源
微弧氧化(MAO)是一種在輕金屬表面原位生長陶瓷氧化膜的新技術。美國五十年代在某些兵工廠開始研究陽極火花沉積，前蘇聯(lián)從七十年代中期開始獨立研究微弧氧化且具較高水平，八十年代中、后期以來微弧氧化研究已成為國際研究熱點并開始應用，九十年代初國內開始起步。微弧氧化在航空、航天、機械、電子、裝飾等領域有廣泛應用前景。
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第7年
