工業(yè)上大量使用的是工業(yè)純稀土金屬,較高純度的稀土金屬主要供測定物理化學(xué)性能之用。主要有四種提純方法在試驗室中使用,即真空熔融,真空蒸餾或升華,電遷移和區(qū)域熔煉。 稀土金屬棒在區(qū)域熔煉爐中以很慢的速度(如提純釔時為0.4毫米/分),進(jìn)行多次區(qū)熔,對去除鐵、鋁、鎂、銅、鎳等金屬雜質(zhì)有,但對氧、氮、碳、氫無效。此外,電解精煉、區(qū)熔-電遷移聯(lián)合法提純稀土也有一定效果。
陶瓷靶材
ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶,丹東純銀零部件,、二氧化鉿靶,二硼化鈦靶,純銀零部件回收,二硼化鋯靶,三氧化鎢靶,三氧化二鋁靶五氧化二鉭,純銀零部件生產(chǎn)加工,五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化鈦靶,碳化硅靶,鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、濺射靶材等。
磁控濺射靶材種類:金屬濺射鍍膜靶材,合金濺射鍍膜靶材,陶瓷濺射鍍膜靶材,硼化物陶瓷濺射靶材,碳化物陶瓷濺射靶材,氟化物陶瓷濺射靶材,氮化物陶瓷濺射靶材,氧化物陶瓷靶材,硒化物陶瓷濺射靶材,硅化物陶瓷濺射靶材,硫化物陶瓷濺射靶材,碲化物陶瓷濺射靶材,其他陶瓷靶材,純銀零部件誰家好,摻鉻一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO),磷化銦靶材(InP),鉛靶材(PbAs),銦靶材(InAs)。
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