各種純度鋁中的雜質(zhì)含量及剩余電阻率如表2所示。超純金屬超純的純度也可以用剩余電阻率來測定,其值約為2×10-5?,F(xiàn)代科學(xué)技術(shù)的發(fā)展趨勢是對金屬純度要求越來越高。因?yàn)榻饘傥茨苓_(dá)到一定純度的情況下,金屬特性往往為雜質(zhì)所掩蓋。不僅是半導(dǎo)體材料,其他金屬也有同樣的情況,由于雜質(zhì)存在影響金屬的性能。
鎢過去用作燈泡的燈絲,廣西2N金靶材,由于脆性而使處理上有困難,在適當(dāng)提純之后,2N金靶材價(jià)格,這種缺點(diǎn)即可以克服(鎢絲也有摻雜及加工問題)。
人類社會(huì)的存在,科學(xué)技術(shù)的進(jìn)步和發(fā)展,2N金靶材哪家好,已成為21世紀(jì)首要的戰(zhàn)略儲(chǔ)備物資,且與各國的政治經(jīng)濟(jì)和社會(huì)發(fā)展有著息息相關(guān)的緊密聯(lián)系,在已知的傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)和應(yīng)用領(lǐng)域中,高純材料、合金、各種深加工的制品(半成品)及化學(xué)制品,已被廣泛應(yīng)用到冶金鋼鐵,石油化工,有機(jī)化工,化工,電子電器,汽車制造,光學(xué)玻璃,玻璃纖維。
眾所周知,靶材材料的技術(shù)發(fā)展趨勢與下游應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的薄膜技術(shù)發(fā)展趨勢息息相關(guān),隨著應(yīng)用產(chǎn)業(yè)在薄膜產(chǎn)品或元件上的技術(shù)改進(jìn),靶材技術(shù)也應(yīng)隨之變化。如Ic制造商.近段時(shí)間致力于低電阻率銅布線的開發(fā),預(yù)計(jì)未來幾年將大幅度取代原來的鋁膜,這樣銅靶及其所需阻擋層靶材的開發(fā)將刻不容緩。另外,近年來平面顯示器(FPD)大幅度取代原以陰極射線管(CRT)為主的電腦顯示器及電視機(jī)市場.亦將大幅增加ITO靶材的技術(shù)與市場需求。此外在存儲(chǔ)技術(shù)方面。高密度、大容量硬盤,高密度的可擦寫光盤的需求持續(xù)增加.這些均導(dǎo)致應(yīng)用產(chǎn)業(yè)對靶材的需求發(fā)生變化。下面我們將分別介紹靶材的主要應(yīng)用領(lǐng)域,以及這些領(lǐng)域靶材發(fā)展的趨勢。
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