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日照微弧技術(shù)有限公司
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ZL205A微弧氧化膜層耐蝕性能研究
利用硅酸鹽復(fù)合電解液體系，鈦合金微弧氧化技術(shù)，在ZL205A上采用微弧氧化法制備膜層。
所用的工藝參數(shù)為：恒流控制，電流密度3 A/dm^2，PEO技術(shù)微弧氧化，頻率500 Hz，終止電壓450 V。利用掃描電鏡對該膜層的形貌及結(jié)構(gòu)進行分析；對膜層的化學(xué)成分進行分析；采用極化曲線評價膜層的耐蝕性。
結(jié)果表明：所制備的微弧氧化膜層能提高ZL205A的耐蝕性。
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第7年
